碳化硅應(yīng)用新方向
在美國斯坦福大學工程系官網(wǎng)頭條刊登文章,介紹該學院對超穎材料最新研究所取得的突破,該院最新研究成果顯示,通過添加納米原子,碳化硅超穎材料可以達到“真正隱形”。
每一種自然物質(zhì)都有一個正的光反射比值,然而通過對碳化硅制成的超穎材料添加類似凹面鏡的新月型納米級人工原子,科學家們便可以調(diào)節(jié)光的反射值,如果能將這個值調(diào)整為零,那物體吸收的光線將不反射,做到了真正的“隱形”。
在當代C/N/B等非氧化物高技術(shù)耐火原料中,碳化硅為應(yīng)用最廣泛、最經(jīng)濟的一種。由于化學性能穩(wěn)定、導熱系數(shù)高、熱膨脹系數(shù)小、耐磨性能號,除作磨料磨具碳化硅用外,還有很多其他用途,例如碳化硅新應(yīng)用之3D打印材料,伴隨著科技的進步,資本市場對碳化硅生產(chǎn)商亦相當追捧。一旦碳化硅材料在3D打印的應(yīng)用更為普級,對方碳化硅產(chǎn)量占全球七成的我國來說,或?qū)⒃趪H市場上占有更多議價權(quán)。
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