隨著技術(shù)發(fā)展，碳化硅反射鏡的應(yīng)用領(lǐng)域正在不斷擴(kuò)大，在空間對(duì)地觀測(cè)、深空探測(cè)、天文觀測(cè)和量子通訊等方面都能看到它的身影。

但是，這些高性能空間光學(xué)元件往往會(huì)要求具有超光滑表面（表面粗糙度<1nmRMS），因此碳化硅材料在反射鏡應(yīng)用方面主要面臨以下兩方面困難：

一方面，由于SiC材料比剛度大，化學(xué)穩(wěn)定性高，很難通過機(jī)械力拋光的方法直接獲得高質(zhì)量的SiC光學(xué)鏡面；

另一方面，非常難以直接制備完全致密的SiC材料，殘留的氣孔等缺陷會(huì)影響光學(xué)加工質(zhì)量，最終影響鏡面質(zhì)量。不過令人意外的是，后者的影響其實(shí)遠(yuǎn)比前者要小。