歡迎光顧金蒙新材料官方網(wǎng)站!

山東金蒙新材料股份有限公司

金蒙新材料
國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)
服務(wù)熱線:
4001149319
當(dāng)前位置:首頁(yè) » 金蒙資訊 » 金蒙新材料百科 » 碳化硅動(dòng)態(tài)光散射法

碳化硅動(dòng)態(tài)光散射法

文章出處:原創(chuàng)網(wǎng)責(zé)任編輯:楊麗君作者:王曉曉人氣:-發(fā)表時(shí)間:2015-01-16 16:48:00【

  前面所講的激光散射法可以理解為靜態(tài)光散射法。當(dāng)碳化硅微粉顆粒小到一定的程度時(shí),顆粒在液體中受布朗運(yùn)動(dòng)的影響,呈一種隨機(jī)的運(yùn)動(dòng)狀態(tài),其運(yùn)動(dòng)距離與運(yùn)動(dòng)速度與顆粒的大小有關(guān)。通過(guò)相關(guān)技術(shù)來(lái)識(shí)別這些顆粒的運(yùn)動(dòng)狀態(tài),就可以得到碳化硅粒度分布了。動(dòng)態(tài)光散射法,主要用來(lái)測(cè)量納米材料的粒度分布。國(guó)外已有現(xiàn)成的儀器,國(guó)內(nèi)目前還沒(méi)有。

  金蒙新材料公司最常用的碳化硅粒度檢測(cè)法一般都是電阻法和激光法。

此文關(guān)鍵字:碳化硅